一、儀器的主要用途和特點 |
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XPF-300透反射偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金等部門和相關高等院校常用的專業實驗儀器。用于不透明物體或半透明物體,可以同時采用透射光和反射光觀察.
隨著光學技術的不斷進步,偏光顯微鏡的應用范圍也越來越廣闊,許多行業,如化工,半導體工業以及藥品檢驗等等,都廣泛地使用偏光顯微鏡。XPF-300透反射偏光顯微鏡就是非常適用的產品,可供廣大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察以及顯微攝影,配置有石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子和移動尺等附件,是一組具有較完備功能和良好品質的新型產品.本儀器的具有可擴展性,可以接計算機和數碼相機。對圖片進行保存、編輯和打印。 |
二、儀器的主要技術指標 |
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名稱 |
規格 |
總放大倍數: |
40X---630X |
無應力消色差物鏡 |
4X/0.1 |
10X/0.25 |
25X/0.40 |
40X/0.65 彈簧 |
63X/0.85 彈簧 |
目鏡 |
10X 十字目鏡 |
10X 分劃目鏡 |
試片 |
石膏 1λ 試片 |
云母 1/4λ 試片 |
石英楔子試片 |
測微尺 |
0.01mm |
濾色片 |
藍色 |
帶座目鏡網絡尺 |
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移動尺 |
移動范圍 30mm×40mm |
鏡筒 |
三目觀察 |
同軸照明系統 |
顯微鏡垂直照明系統,系統系數1倍,可適配與各型號的普通(160毫米機械筒長,斜筒式) 顯微鏡 ?勺鳛榉瓷涔庹彰飨到y下觀察不透明物體表面細微結構. |
反射照明系統 |
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三、系統的擴展性 |
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XPF-300D型偏光顯微鏡系統是將精密的光學顯微鏡技術、先進的光電轉換技術、優異的計算機成像技術結合在一起而開發研制成功的一項科技產品?梢栽谟嬎銠C上很方便地觀察偏光圖像,并對偏光圖譜進行分析,處理,還可輸出或打印偏光圖片。 |